林本坚华人芯片奇才一个疯狂点子帮荷兰垄断光刻机中国缺芯是他在挖坑荷兰

文章图片
光刻机巨头荷兰阿斯麦口罩对准巨人荷兰ASML
由于缺乏顶级的掩模对准器，国内芯片制造行业举步维艰。
荷兰的ASML是顶级口罩的垄断者，但是他们不能把顶级口罩卖给我国。
原因很简单。ASML的第一和第二大股东是美国公司。

文章图片

长期以来，总有人嘲讽中国，制造不出顶级口罩对准器。但他们可能不知道，ASML在荷兰的崛起，离不开中国人的智慧。
由于中国芯片天才提供的技术，荷兰ASML取得了快速的进步，从而将日本掩模对准器巨头远远甩在了后面。
这个中国芯片天才是谁？他为荷兰人提供了什么技能？

文章图片

1.在荷兰帮助口罩校准器的中国天才是谁？
这位大师就是林本剑！他出生在广东潮汕和越南。2008年当选美国工程院院士。
他在美国工作了30年，一直在研究半导体领域的“光学”技术。
林本坚于2000年加入TSMC。正是因为他的到来，TSMC和ASML在荷兰的命运发生了变化。
20多年前，TSMC还只是一家中型半导体企业。
荷兰的ASML在当时还是一个小公司。缺乏资金和先进技术。
日本的尼康和佳能是当时全球面膜对准器市场的绝对霸主。

文章图片
华人科学家林本坚中国科学家林本坚
2.中国天才与新技术改写口罩对准器新格局。
20世纪90年代末，掩模对准器光源技术遇到瓶颈。
当时，掩模对准器中的制造商使用空气体作为光的介质。然而，当光源的波长达到193纳米时，它永远不会下降。
全世界的科学家都在寻找解决方案。
如何缩短光源波长？谁能带头，谁就成了市场之王。
林本坚提出了一个疯狂的想法，用水作为光的媒介，通过光的折射来缩短光波。
因为水的折射率是1.44，193纳米的波长可以通过折射降低到132纳米。

文章图片

林本健的想法是做一个渗透式的面膜对齐器。尼康和佳能一直投入巨资生产干式面膜对准器，他们根本不喜欢林本坚的计划。
因为日本人认为芯片制造需要一个完全无污染的环境，而水会造成污染，影响芯片产量。
林本坚屡次碰壁，终于找到了荷兰ASML公司并与之合作。
【林本坚华人芯片奇才一个疯狂点子帮荷兰垄断光刻机中国缺芯是他在挖坑】2004年，在林本剑的指导下，ASML只用了一年时间就成功推出了132 nm掩模对准器。
然而，尼康直到多年后才开发出157纳米的掩模对准器。

文章图片

从那以后，ASML在技术上取得了快速进步，并大力抢占市场。等尼康和佳能反应过来，就来不及了。日本巨头失去了在口罩对准器市场的机会，从此一蹶不振。
由于与荷兰ASML的深度合作，TSMC迅速抢占市场，成为芯片行业的代工巨头。
即使顶部掩模对准器的波长降到了13.4nm，林本坚的技术依然被广泛应用，影响深远！