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研究配图 - 5：不同模型的潜在分布模拟
更棒的是 ， 由于制造这些设备的技术 ， 已被广泛运用于半导体电子产品的制造 ， 所以新装置的大规模生产也将相当容易扩展 。
目前该团队已提交临时专利申请 ， 并期望尽快将该技术投入商业化 。

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研究配图 - 6：Ni / SiO₂ / P⁺n-Si 光电极的尖峰表征与模拟
有关这项研究的详情 ， 已经发表在近日出版的《Nature Communications》期刊上 。
_本文原题是为《Scalable, highly stable Si-based metal-insulator-semiconductor photoanodes for water oxidation fabricated using thin-film reactions and electrodeposition》 。

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