半导体衬底喷砂工艺的作用
【半导体衬底喷砂工艺的作用】半导体衬底喷砂工艺的作用是去除半导体衬底表面的毛刺和油污等 。在半导体衬底的使用过程中 ， 必须定期或不定期地对半导体衬底的表面进行清洗，才能维持半导体衬底的良好性能，保证其正常使用 。喷砂区域是固定的，无法调节，工人在半导体衬底上安装喷砂治具时，如果喷砂区域的大小大于半导体衬底的待喷砂表面 ， 必须更换新的喷砂治具 。
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