ASML EUV搅局半导体设备供应链 这些厂商压力山大
ASML股票在1月17日上涨了7％ ， 以199.18收盘 ， 因为ASML公布了过去12个月的季度销售情况 ， 为30.7亿美元 ， 实现同比增长53％ ， 超过其预期的25.2亿美元 。ASML实现了7.7亿美元的利润 ， 远超出了5.44亿美元的分析目标 。
与此同时 ， Lam Research股票上涨7.7％至205.08 ， 应用材料上涨5.2％至57.34 ， KLA Tencor上涨5.4％至113.49 。
首先 ， 我将先对ASML主宰光刻行业进行介绍；然后 ， 对我的观点——ASML盈利表现良好对Lam Research、应用材料、KLA Tencor是不利的 ， 进行解读 。
对于逻辑器件、存储器件等主流IC行业 ， 可以利用不同技术实现10nm以下工艺的光刻设备商只有三家：
【ASML EUV搅局半导体设备供应链 这些厂商压力山大】 荷兰ASML–EUV（极紫外光）光刻
日本尼康–浸没式DUV（深紫外光）光刻
日本佳能–纳米压印光刻（NIL）
最初 ， 这三家企业都是从制造传统光学光刻设备起家 ， 其技术可追溯二十世纪八十年代 。随着摩尔定律的演进 ， 它们的产品也在发生变化 。如图1所示 ， 有多种技术可用于在晶圆表面上复制光掩模 。
2016年 ， ASML、尼康与佳能在不同行业起到了领导性作用 。图2是I-line stepper市场份额情况 ， I-line stepper可为所有类型光刻工具提供最低分辨率 ， 售价在4~6百万美元 。出售的79种工具中 ， 大部分是升级版 ， 因为它们的鼎盛时期在1990年初 ， 但它们仍然被应用于需要低分辨率的应用场景中 。
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